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熔融制樣法在XRF分析中的應用
點擊次數(shù):4730  更新時間:2019-08-21
   在X射線熒光光譜分析中,氧化物的硼酸鹽熔融制樣技術由于*消除了樣品的礦物效應和粒度效應,樣品被熔劑稀釋后又能一定程度的降低共存元素引起的基體效應,而被認為是X射線熒光光譜分析中的制樣方法。熔融制樣法早由Claisse提出,并在1956年發(fā)表了篇關于熔融制樣方面的論文(Claisse, F. Department of Mines, Quebec, Canada, P. R. 327, 1956; The Norelco Report 4(3), 95, 1957)。以后,該技術逐漸發(fā)展并成熟,現(xiàn)在已被*的大量實驗室采用,成為工業(yè)檢測和科學研究的重要組成部分。本專題以此為切入點,談談熔融制樣法在XRF分析中的應用。

目錄:
一、制備玻璃熔片的基本條件
1.       熔劑
2.       坩堝
3.       脫模劑
4.       熔樣爐
二、各元素在玻璃片中的溶解特性
三、硫與氟在玻璃熔片中的保留
1.       如何保存玻璃熔片中的硫
2.       氟在玻璃熔片中的行為
四、還原性物質的熔融制樣

一、制備玻璃熔片的基本條件
1.        熔劑
用于熔融制樣的熔劑主要是硼酸鹽,可以說熔融制樣法的歷史就是伴隨著硼酸鹽的使用而來的,Claisse在早設計的玻璃熔珠實驗中,用的就是無水硼砂(Na2B4O7)。如今,四硼酸鈉作為熔劑已經退出了熔融制樣法的主流舞臺,取而代之的是性能更為優(yōu)異的硼酸鋰熔劑。除了硼酸鋰外,對于特殊樣品有時候也會用到偏磷酸鈉熔劑。
1        四硼酸鋰熔劑(Li2B4O7
    一般簡寫為LiT,是一種弱酸性熔劑,與堿性樣品相容性很好。四硼酸鋰的熔點是917度,化學組成上為17.7%Li2O82.3%B2O3,熔融后幾乎不結晶,是熔融制樣法中主要也是常用的熔劑,性能優(yōu)良。
2        偏硼酸鋰熔劑(LiBO2
一般簡寫為LiM,為堿性熔劑,與酸性氧化物相容性很好。偏硼酸鋰的熔點為849度。化學組成為30.0%Li2O70.0%B2O3,融化后有很好的流動性,冷卻過程中卻易發(fā)生結晶,一般不建議單獨使用偏硼酸鋰做熔劑。
3        混合溶劑
混合溶劑是由四硼酸鋰和偏硼酸鋰按不同比例混合而來,在化學組成上介于LiTLiM之間,熔點也基本介于兩者之間,在大多數(shù)情況下使用混合熔劑會獲得更佳的熔片效果,玻璃熔片不破裂,也較少黏附坩堝。
4        四硼酸鈉熔劑
無水硼砂是早使用的熔劑,Na2B4O7的熔點741度,對大多數(shù)氧化物都適用,玻璃片也不會結晶破裂。但他的缺點也比較明顯,有很強的吸濕性,玻璃熔片不易長時間保存,這對于校準樣片來說是不利的。
5        偏磷酸鈉熔劑
偏磷酸鈉的熔化從約600度開始,由于低的熔化溫度可作為高溫揮發(fā)性物質的良好熔劑,同時偏磷酸鈉對氧化鉻有著很好的溶解性,這在某種程度上彌補了氧化鉻在硼酸鋰熔劑中溶解度差的不足。偏磷酸鈉的水溶性很好,有時候也可用它作為制備用于ICPAA分析的水溶液的熔劑。
2.        坩堝
鉑是迄今發(fā)現(xiàn)的可用于熔融操作的**實用金屬,金的加入一方面增加了鉑坩堝的強度,使得坩堝不易變形;另一方面,使坩堝更加不易浸潤。目前通用的坩堝材質為95%Pt-5%Au組成的合金,壁越厚越不易變形,越耐用,但費用也會更高,現(xiàn)在一般做成直徑32mm的圓底形狀,也為經濟。根據(jù)使用方法可分為直接成型用坩堝和澆鑄成型用坩堝,對于澆鑄成型的坩堝,還會有專門的配套模具。
1Claisse熔樣爐用的配套坩堝,配有專門的模具澆鑄成型。圖2是國內某公司產的硅碳棒加熱熔樣爐用的坩堝,玻璃片在坩堝內直接成型。

 

關于坩堝的保養(yǎng)需注意三個方面
1)減少腐蝕
這也是重要的。任何氧化不*的物質都可能引起對坩堝的腐蝕,比如硫化物、鐵合金、Cu2O等,所以不要抱有任何僥幸心理,在熔融前需要對樣品有充分的了解。
2)清洗
坩堝在使用過程中,由于某些特殊樣品可能會導致脫模效果不好,坩堝中會黏附玻璃殘渣。殘渣快速的清洗方法一般用稀酸煮沸,需強調的是必須用單一酸,或硝酸,或鹽酸,千萬不能用硝酸和鹽酸的混酸。另一種方法就是加入熔劑再進行一次熔融,脫模后傾倒出玻璃片即可。
3)拋光
對于一些輕微的腐蝕,比如坩堝失去光澤時,可以嘗試對坩堝進行一次拋光。一般可用絨布或細粒砂紙(比如800目)高速摩擦坩堝,使坩堝恢復光滑。拋光操作一定要小心,切不可用粗砂紙直接摩擦坩堝。如果腐蝕太嚴重時,建議對坩堝進行一次重鑄。

3.        脫模劑
熔融的玻璃有粘附或浸潤鉑坩堝和模具的傾向,這使得熔片易粘在坩堝或模具上,不易傾倒。因此,必須使用脫模劑來幫助熔片從坩堝或模具中順利剝離。目前發(fā)現(xiàn)只有鹵化物有這樣的特性,可作為脫模劑使用,如溴化物LiBrNH4Br等和碘化物KINH4I 等。關于脫模劑的作用機理,一般認為脫模劑會在玻璃表面形成一層包裹膜,使得熔片能夠順利剝離坩堝或模具。
脫模劑的用量不用很多,一般20~50mg 即可,可以通過固體加入,也可以通過溶液加入。需要說明的是,由于鹵族元素在高溫時,有很強的揮發(fā)性,所以熔融溫度和熔融時間也會影響脫模劑的用量。當脫模劑用溶液形式加入時,具有不用稱量的優(yōu)點,準確性也很好。脫模劑可以在熔融前加入到坩堝中,也可以在澆鑄前注加入坩堝中,后者只能加入固體,但這樣脫模劑的使用量更少。使用脫模劑時須要考慮到Br 對分析元素的干擾,盡量避免元素間的干擾。

 

 

4.熔樣爐

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熔融反應一般需要1000度以上的溫度,早期熔融制片常借助于燃氣燈或馬弗爐,現(xiàn)在已經有大量的專業(yè)性強,自動化程度高的熔融制樣爐。根據(jù)使用特點,一般可分為以下四種。

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1)馬弗爐。*手工的熔融設備,現(xiàn)在仍無法*取代。在熔融樣品不多的情況下可以使用,但如何保證玻璃熔片的均勻性是其大的挑戰(zhàn),一般需要一定的操作技巧和熟練度才能制得重現(xiàn)性好的熔片。

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2)硅碳棒加熱爐。目前國內生產硅碳棒加熱熔樣爐的公司很多,專業(yè)程度也很高。該爐型現(xiàn)在基本上實現(xiàn)自動化,操作安全,制出的樣片重現(xiàn)性很好,坩堝的使用壽命也較長。一般一次可同時容納4~6個樣品,工作效率也比較高。

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3)燃氣爐。通過使用高熱值的燃氣來實現(xiàn)熔融制樣,在控溫精度上可能會稍遜于硅碳棒加熱型的熔樣爐。使用時應注意避免讓坩堝與氣體的還原焰接觸,注意坩堝使用的安全。 

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4)高頻感應爐。該爐中坩堝處于高頻振蕩的電磁條件下,靠自身發(fā)熱來實現(xiàn)熔融。具有速度快,能耗較低,操作安全的特點。但由于發(fā)熱形式是靠坩堝的原子振動碰撞實現(xiàn),長時間坩堝的損耗可能比較大,同時在溫度控制上也不如硅碳棒型的熔樣爐。

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二、各元素在玻璃片中的溶解特性
在元素周期表中,可形成玻璃的元素有B, Si, P, As, Sb, O, S, SeTe,位于周期表中第到第主族。所以對于第到第主族的元素來說,成玻璃幾乎不成問題,所以基本上也不存在難熔問題,可能**的一個就是硫的溶解和揮發(fā)問題。同樣的,氟也存在這樣的問題。另外一個比較棘手的就是過渡元素的熔融,尤其是氧化鉻的熔融,具體反應在低的溶解度上。含銅材料也存在難熔的問題,一是坩堝腐蝕問題,二是玻璃片的黏附問題。
在下面所示的元素周期表中,我們把它分為幾個部分,一是工業(yè)上常用元素包括次常用元素;二是稀土元素;三是易揮發(fā)元素包括鹵族元素和硫。對于大多數(shù)的工業(yè)常用元素來說,除了鉻和銅的熔融稍有難點外,其他元素熔制玻璃片基本上是不成問題的。對于易揮發(fā)元素溴和碘來說常作為脫模劑使用,已經討論過了,而對于硫和氟來說,由于其在工業(yè)上的重要性,其測量的準確度也是不容回避,在下面章節(jié)將專題討論。稀土元素由于在樣品中的含量并不會太高,除了考慮檢出限外,熔融的難點也不大。
重點闡述下氧化物在硼酸鹽熔劑中的溶解度。
雖然在整個元素周期表中,除了產生氣體氧化物的元素外,幾乎所有元素的氧化物都可以熔于硼酸鹽熔劑,**不同的是溶解度上的差異。下圖很清晰的表明了這種關系,一般情況下四硼酸鋰對堿性氧化物熔融效果更好,偏硼酸鋰對酸性氧化物溶解度更大一些。下面的溶解度關系圖(由Claisse繪制)可作為日常熔片的工作指導,避免少走彎路。在溶解度關系上,目前只有氧化鉻是個特例,溶解度極小,7g硼酸鹽大概多只能溶解0.15gCr2O3。有文獻報道,添加適量的鈉鹽可以適當?shù)脑龃笱趸t的溶解度,按照這個理論,那硼酸鈉熔劑是不是對氧化鉻有更好的溶解度呢? 
另外一個需要單獨說明的是含銅材料的熔融。氧化銅會對鉑坩堝輕微鍍銅,導致坩堝腐蝕,同時含銅玻璃片對坩堝的黏附很大,這可能也和銅的析出有關。但是對于硫化銅礦來說,在充分氧化的前提下,似乎比純的氧化銅更好熔融。目前,已經有少量文獻報道采用熔融法測銅精礦中各元素的報道,這對于采用熔融制樣XRF準確測定含銅材料尤其是銅礦來說,是一個很廣泛的應用領域。

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三、硫與氟在玻璃熔片中的保留

在整個元素周期表中,硫和氟在高溫熔融時的揮發(fā)性引人注意,往往因為他們的揮發(fā)性而導致結果的不準確,但對于硫與氟的分析又恰恰很重要。這是因為含硫和含氟物質往往是工業(yè)上常用原料,對其分析有著潛在的必要性。所幸的是,通過特殊的處理,硫和氟在玻璃熔片中的保留可以做得很好,基本上能夠滿足常規(guī)的分析要求。
1.        如何保存玻璃熔片中的硫
硫的氧化物有兩種形態(tài),一是SO2,另一是SO3。對于SO2來說,熔融的實現(xiàn)基本上不可能,它可以說是*揮發(fā)的,而對于SO3來說,問題可能并不是那么棘手,它的揮發(fā)性就很小,或者說它幾乎不揮發(fā),但前提必須在特定的熔劑組成和熔融溫度下。既然存在這樣的問題,那么我們該如何使硫保留在玻璃熔片中呢?
個問題,選擇合適的氧化態(tài)。
既然SO2是揮發(fā)的,在硼酸鹽熔劑中是無法保留的,為了保硫,我們就不能讓硫以低價態(tài)形式存在,必須把它氧化到*高價態(tài)。舉個例子,比如亞硫酸鹽的熔融,應該說對于亞硫酸鹽的熔融還是很有挑戰(zhàn)性的,硫含量如此之高,在你稍不留意下就會有損失。在這種情況下,對于亞硫酸鹽的氧化一定要在低溫下進行,以防硫的損失,可能對于高硫樣品的應用還是少一些,暫且可以不過分的糾纏。我們更多的是對低硫樣品的測試,比如礦石中硫的測定,這個時候氧化就不需要特別的注意了。
第二個問題,熔融溫度的選擇。
硫雖然是揮發(fā)性的,但也僅僅在高溫下?lián)]發(fā),圖6清晰的說明了硫的揮發(fā)狀態(tài),當溫度超過1000度后,硫開始揮發(fā),并且越來越嚴重。既然如此,那么我們在選擇熔融溫度的時候盡量的不要超過1000度,所幸的是,四硼酸鋰的熔點是921度,偏硼酸鋰的熔點是845度,兩者按不同比例混合的熔劑的熔點在這兩者之間,所以不需要超過1000度熔融就*可以實現(xiàn)。

 

揮發(fā)元素的揮發(fā)性與溫度關系
第三個問題,熔劑的選擇。
千萬不要認為熔劑對氧化物的溶解狀態(tài)沒有太大關系,對于硫就是一個很明顯的例子。當硫以SO3形式出現(xiàn)時,如果選擇四硼酸鋰做熔劑保硫效果就不好,這是因為強酸性的SO3和酸性的四硼酸鋰的結合性如此之差,導致硫的揮發(fā)變得不能忽視。因為存在這樣的反應SO3 == SO2+O2,反應逐漸向右進行,以至于硫全部揮發(fā)掉。而偏硼酸鋰卻是堿性的,由于異性相吸,酸堿中和這樣的真理的存在,SO3很樂意存在于偏硼酸鋰這樣的環(huán)境中。但由于純的偏硼酸鋰容易結晶,并不建議使用純的偏硼酸鋰作為保硫熔劑,在四硼酸鋰中混合一定量的偏硼酸鋰就可以達到相當好的效果,1:1或者更少一點的偏硼酸鋰都可達到目的。
這樣我們可以得出這樣的結論,硫在玻璃熔片中的存在必須滿足這樣的條件,1、形態(tài)必須是高價態(tài),也就是正六價的硫;2、熔融溫度要盡可能的低一些;3、熔劑中至少要有30%的偏硼酸鋰。

2.        氟在玻璃熔片中的行為

氟在工業(yè)上的應用也是比較廣泛的,比如螢石中CaF2的測定以及電解鋁工業(yè)中各種尖晶石的測定。但是用熔融法測氟涉及到兩方面的問題,一是氟在高溫下的揮發(fā)性,另一是氟的熒光產額。

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關于氟在高溫下的揮發(fā),一般認為在不超過900攝氏度下,損失較小。所以對于含氟材料的熔融,溫度一定不要太高,所幸的是由四硼酸鋰和偏硼酸鋰組成的混合熔劑的熔點小于900攝氏度,在不超過900攝氏度時熔融*可以實現(xiàn)。另外一種思路是采用熔點更低的偏磷酸鈉做為含氟材料的熔劑,可以更有效的抑制氟的揮發(fā)損失,也有相關的文獻報道。

由于氟為輕元素,熒光產額很低,熔融后元素含量又被稀釋,更加降低了氟的熒光射線強度。增加氟的熒光射線強度可以通過兩個途徑,一是采用小比例稀釋樣品,盡量不要超過15;二是對于氟這樣的超輕元素采用小電壓大電流的方式增加射線強度。

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關于熔融法測定含氟材料中的氟,雖然已經有實驗室在用,也有相關的文獻報道,但是氟作為鹵族元素,氟在玻璃熔片中的行為到底是怎樣的呢?我們知道,鹵族元素中的溴和碘是作為脫模劑使用的,一般認為溴和碘在玻璃片的表面形成一層薄膜,進而增加表面張力來達到剝離玻璃片的目的。那么,氟在玻璃片中是如何存在的?會不會也是形成了一層薄膜?如果氟是不熔的,那僅僅是物理混合嗎?

四、還原性物質的熔融制樣

對于這類物質,一方面由于還原性物質會強烈腐蝕鉑金坩堝,另一方面非氧化物不熔于硼酸鹽熔劑,所以對于這類物質是不能直接熔融的,主要包括鐵合金、硫化物(各種硫精礦)、氮化物、碳化物以及亞氧化物(Cu2O)。但是人們?yōu)榱俗非蟮姆治鼋Y果,通過合適的預氧化手段后,已經實現(xiàn)了這類物質的熔融制樣。合適氧化劑的選擇以及合適的預氧化手段是還原性物質熔融的關鍵,一般固體氧化劑可選過氧化物(Na2O2, BaO2等)、碳酸鹽(Li2CO3, Na2CO3等)以及硝酸鹽(LiNO3, KNO3),不同氧化劑的氧化效率和劇烈程度各不相同,要分品種選擇。下表給出了不同材料熔劑和氧化劑的選擇和配比,可以作為參考。

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關于這類樣品的熔融,樣品在坩堝中的布置是至關重要的,下圖給出了兩種不同的放置方式(由Claisse熔融制樣手冊提供)。對于弱還原性物質或樣品中含有少量還原性成分的物質,左圖中所示的布置方式是可以接收的。但是對于鐵合金類樣品,強烈建議采用右圖中所示的方式,事先在坩堝內壁制作四硼酸鋰保護層,以*隔絕樣品和坩堝的接觸。
需強調的是,對于這類樣品的熔融制樣,不管采用何種方式,或從何種文獻得到的方法,一定要考慮充分了才能實驗,并且一定要心細點。

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